当两个以上的特征受参考相同基准参考框 (以相同的优先级顺序和相同的实体原则参考基准特征) 的位置或轮廓几何公差约束时，这些特征将被视为包含一个具有同时要求的集。属于此集的所有特征应一同进行检查，且必须同时满足其要求 (由应用的几何公差指定)。当几何公差参考的 DRF 约束不足或参考了一个或多个带有 MMC 或 LMC 修饰符的基准尺寸特征 (表示零件可能会相对于 DRF 进行偏移) 时，这一点尤为重要。请注意，该诊断测试将忽略自由状态修饰符，尽管该修饰符可能会影响同时集 (同时集的成员必须全部处于约束状态或自由状态)。

为 DRF 显示此消息时，可标识参考该 DRF 的哪些几何公差是同时需求集的成员，方法为在特征树中右键单击 DRF，然后从上下文菜单中选择“显示同时需求”(Show Simultaneous Requirements)。

同时要求通常比分离要求造价高。在考虑是否应从同时集排除特征 (或特征阵列) 时，您应考虑以下方面：

如果特征满足这两个条件，则应指定几何公差为分离要求。您可以通过以下步骤指定应将其视为分离要求：