关于在 Creo Flexible Modeling 中将阵列成员投影到曲面上
在填充、曲线和点阵列中，用于定义阵列的草绘位于平整平面上，而阵列成员所投影到的曲面可能并非平整平面。要在将阵列成员投影到曲面上时使其精确对齐，阵列导引和草绘平面应与投影曲面相切。如果草绘平面和阵列导引与曲面不相切，则阵列成员将根据选定的方向类型来跟随选定的曲面和曲线。不能投影到曲面上的阵列成员将被从阵列中移除。在球上，阵列成员的投影只能投影扩展到“赤道”。
要在曲面上分布阵列成员，可以使用以下选项：
• “按照投影”(As projected) - 将阵列导引和阵列成员直接投影到曲面上。
• “映射到曲面空间”(Map to Surface Space) - 将此阵列导引直接投影到曲面上。其余阵列成员将被从草绘平面映射到曲面平面，从而保证曲面上的间距与草绘中的间距匹配。当草绘或模板使用等间距时，通过该选项可以产生更为均等的成员间距。该选项最适用于靠近阵列导引的阵列成员。此选项仅对实体曲面可用。
当您使用圆模板或螺旋模板将成员映射至“填充”阵列中的球形曲面时，阵列导引将成为球面的极点位置。在超出赤道的区域，阵列成员的数量会自动减少以维持曲面间距。
• “映射到曲面 UV 空间”(Map to Surface UV Space) - 将此阵列导引直接投影到曲面上。而对于其余的阵列成员，将根据它们相对于草绘平面中第一个成员的 xy 坐标将其从草绘映射到曲面的 uv 空间。
|
|
• 要创建间距均匀的阵列，曲面 uv 线必须间隔均匀。
• 在球面的极点处，uv 线密度为无穷大，无法映射到它们。
• uv 线不会延伸到曲面边界之外。因此，通过边界而与阵列导引隔开的曲面区域不由阵列成员进行填充。
|