◦ “参考”(References) 收集器 - 通过参考现有平面、曲面、边、点、坐标系、轴、顶点、基于草绘的特征、小平面的面、小平面的边、小平面的顶点、曲线、草绘和导槽来放置新基准平面。也可选择目的对象、基准坐标系、非圆柱曲面。

▪ 约束列表 - 设置各个参考的约束。位于各个参考旁的“参考”(References) 收集器中。

▪ 穿过 (Through) - 通过选定参考放置新基准平面。当选择基准坐标系作为放置参考时，将出现“平面”(Plane) 列表：

▪ XY - 通过 xy 平面放置基准平面

▪ YZ - 通过 yz 平面放置基准平面，此为默认设置

▪ ZX - 通过 zx 平面放置基准平面

▪ “偏移”(Offset) - 按自选定参考的偏移放置基准平面。它是选择基准坐标系作为放置参考时的默认约束类型。

▪ “平移”(Translation) 或者“旋转”(Rotation) 值框 - 根据已选定的参考，为新基准平面设置偏移值。

▪ “平行”(Parallel) - 平行于选定参考放置新基准平面。

▪ “法向”(Normal) - 垂直于选定参考放置新基准平面。

▪ “中间平面”(Midplane) - 将新基准平面置于两个平行参考的中间位置，或使其平分由两个非平行参考构成的角。

▪ “二等分线 1”(Bisector1) - 放置新基准平面来平分两个参考构成的 α 角。

▪ “二等分线 2”(Bisector2) - 放置新基准平面来平分两个参考构成的 (180° - α) 角。

▪ 相切 (Tangent) - 相切于选定参考放置新基准平面。当基准平面与非圆柱曲面相切并通过选定为参考的基准点、顶点或边的端点时，系统会将“相切”约束添加到新创建的基准平面。

◦ “截面”(Section) 列表 - 指定基于草绘的特征的截面，且基准平面通过该截面。

◦ “反向”(Flip) - 反转基准平面的法向。

◦ “使用显示参考”(Use display reference) 复选框 - 将基准平面轮廓的大小调整为选定参考。

▪ 参考收集器 - 显示用于调整基准平面大小的选定参考。

◦ “宽度”(Width) - 指定基准平面轮廓显示的宽度值。

◦ “高度”(Height) - 指定基准平面轮廓显示的高度值。

◦ “锁定长宽比”(Lock aspect ratio) 复选框 - 保持基准平面轮廓显示的高度和宽度比例。

◦ “名称”(Name) 框 – 设置特征名称。

• 反转垂直方向 (Flip Normal direction) - 反转基准平面的法向。

• 清除 (Clear) - 清除活动收集器。

• 切换到偏移 (Switch to Offset) - 在将偏距拖动控制滑块捕捉到指定位置时可用。取消捕捉已经捕捉的控制滑块，以及通过移除“通过”约束将约束由“平行”更改为“偏移”。保持基准平面的位置并显示偏距控制滑块。

• “放置参考”(Placement References) - 激活“参考”(References) 收集器，从中可指定约束基准平面的放置参考。

• “移除”(Remove) - 清除选定参考。

• “信息”(Information) - 允许在浏览器或“信息”(Information) 窗口中查看选定参考的信息。

• 二维轮廓控制滑块 - 位于当前创建或者重新定义的基准平面的各个拐角。当平面显示使用“显示”(Display) 选项卡中的“宽度”(Width) 和“高度”(Height) 时，控制滑块可用。移动其中任意一个控制滑块可调整基准平面轮廓显示的尺寸。

• 偏移控制滑块 - 选择“放置”(Placement) 选项卡中的“偏移”(Offset) 且选择基准平面或平面曲面作为基准平面创建的参考之后显示。使用偏移控制滑块可手动将基准平面平移到所需的偏移距离，将控制滑块捕捉到点、线性边、轴或曲线，同时也可取消捕捉已捕捉到某个位置的控制滑块。