基于距参考的距离创建具有可变密度的晶格
1. 单击
“工程”(Engineering) >
“晶格”(Lattice)。
“晶格”(Lattice) 选项卡随即打开。
2. 在“晶格区域”(Lattice Region) 选项卡、“单元类型”(Cell Type) 选项卡和“单元填充”(Cell Fill) 选项卡上定义所需的参数。
3. 单击
“密度”(Density) 选项卡，然后单击
“参考”(References)。
4. 根据晶格类型执行以下操作：
◦ 
“梁”(Beams) 根据单元类型执行以下操作：
▪ 使用单元类型非随机的基于梁的晶格
1. 要定义可创建晶格的最小横截面尺寸，请在“横截面截断”(Cross section cutoff) 旁边键入一个值。横截面截断值必须介于梁横截面尺寸（定义于“单元填充”(Cell Fill) 选项卡）与可变密度尺寸（定义于 “密度”(Density) 选项卡）之间。
2. 要使梁具有可变横截面尺寸，请选择“连续可变性”(Continuous variability)。清除此选项后，每个梁都会具有其自己的直横截面。
3. 要创建用于定义体积块区域的新集，请在“变截面梁”(Variable Beams) 下单击“新建集”(New set)。
4. 要定义围绕其创建可变密度晶格的参考，请单击“参考”(References) 收集器，然后选择或定义下列任意选项：曲面、面组、边、顶点、曲线、曲线端点、轴、点和坐标系的组合。
5. 要定义与创建具有可变密度的晶格的参考的距离，请在“距离”(Distance) 旁边键入一个值。该距离用于设置所选参考周围的体积块区域的大小。
6. 要在参考上定义梁的横截面尺寸，请在“目标横截面尺寸”(Target cross section size) 旁边键入一个值。梁的横截面在“密度”(Density) 选项卡上的“目标横截面尺寸”(Target cross section size) 值和“单元填充”(Cell Fill) 选项卡上定义的“横截面尺寸”(Cross section size) 值之间会有所不同。
7. 要设置密度的变化率，请在“尺寸变化率”(Size change rate) 旁边键入一个值。
▪ 
“随机”(Stochastic) 1. 要创建用于定义体积块区域的新集，请在“自适应分布”(Adaptive Distribution) 下单击“新建集”(New set)。
2. 要定义围绕其创建可变密度晶格的参考，请单击“参考”(References) 收集器，然后选择下列任意选项：曲面、面组、边、顶点、曲线、曲线端点、轴、点和坐标系的组合。
3. 要定义与创建具有可变密度的晶格的参考的距离，请在“距离”(Distance) 旁边键入一个值。该距离用于设置所选参考周围的体积块区域的大小。
4. 要在选定参考处设置密度，请在“密度比”(Density ratio) 旁边键入一个值。
5. 要设置密度的变化率，请在“密度变化率”(Density change rate) 旁边键入一个值。当此选项设置为 1 时，变化率为线性。当值小于 1 时，变化率慢于线性。当值大于 1 时，变化率快于线性。
◦ 
“公式驱动”(Formula Driven) 1. 要定义可创建晶格的最小壁厚，请在“壁厚截断”(Wall thickness cutoff) 旁边键入最小壁厚值。
2. 要创建用于定义体积块区域的新集，请在“集设置”(Set Settings) 下单击“新建集”(New set)。
3. 要定义用于创建体积块区域可变壁厚的参考，请单击“参考”(References) 收集器，然后选择下列任意选项：曲面、面组、边、顶点、曲线、曲线端点、轴、点和坐标系的组合。
4. 要定义与创建具有可变密度的晶格的参考的距离，请在“距离”(Distance) 旁边键入一个值。该距离用于确定所选参考周围的体积块区域的大小。
5. 在“目标壁厚”(Target wall thickness) 旁边键入一个值，以定义指定参考处的壁厚度。
6. 要设置密度的变化率，请在“尺寸变化率”(Size change rate) 旁边键入一个值。当此选项设置为 1 时，变化率为线性。当值小于 1 时，变化率慢于线性。当值大于 1 时，变化率快于线性。